DNP logra una resolución de patrón fina en las fotomáscaras de litografía EUV para una generación superior a los 2 nm

Comienza el suministro de muestras de fotomáscaras EUV de alta AN para semiconductores de próxima generación

“El comunicado en el idioma original es la versión oficial y autorizada del mismo. Esta traducción es solamente un medio de ayuda y deberá ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión del texto que tendrá validez legal”.
– Business Wire

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